中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司（沈阳科仪）座落在沈阳国家高新技术产业开发区，其前身为中国科学院沈阳科学仪器研制中心，创建于1958年。公司占地面积110亩，建筑面积35000平方米，建有7000平方米的洁净装调间和特种工艺清洗线，拥有先进的加工设备和检测手段，总资产1.86亿元人民币，现有员工286人，其中科技人员198人。公司始终坚持以人为本，追求技术领先，拥有进出口经营权。经过半个世纪的发展，造就了创新合作的学习型团队，构建了高起点、高标准的技术平台，成为集真空仪器装置研发、生产、销售、服务为一体的现代企业。
沈阳科仪 - 以创新为理念。在集成电路装备，薄膜制备设备，真空冶金及纳米材料制备设备，超高真空系统集成，分析检测仪器，无油真空获得设备，真空部件等方面不断创新，使产品与技术达到国内领先水平，获国家、中国科学院和省部级科技进步奖50余项。参加北京正负电子对撞机、合肥同步辐射、兰州重离子加速器、上海三代光源、921等国家重大科学工程的建设，为其提供了先进的技术和成套设备。
沈阳科仪 - 以实力为保障。先后建立了分子束外延基地和多功能电子能谱仪生产基地，1998年成立辽宁省精密仪器工程技术研究中心，2000年国家科技部批准组建了国家真空仪器装置工程技术研究中心；同年通过ISO9001国际质量体系认证。
沈阳科仪 - 以诚信为基石。秉承质量第一、顾客至上的经营理念，竭诚为您提供最佳解决方案、高品质产品和超值服务。
产品系列
薄膜制备设备
分子束外延设备
激光分子束设备
JGP系列磁控溅射设备
FJL系列（超）高真空多靶磁控+离子束联合溅射设备
SP+EB系列线列式高真空矩形靶磁控（+电子束联合）镀膜设备
超高真空多对靶磁控溅射镀膜设备
450型三靶共溅射高真空磁控溅射设备
脉冲激光镀膜设备
高真空多功能离子束溅射与电子束蒸发连续镀膜设备
CVD设备
PECVD设备
MOCVD设备
低压等离子体化学气相沉积设备
OLED制备设备
电阻热蒸发镀膜设备
电子束镀膜设备 真空冶金设备
超音雾化喷射成型设备
真空高温电弧熔铸炉
高真空磁控电弧炉及大块非晶制备设备
LMC-1型高真空液态金属冷却定向凝固及电弧熔炼吸铸设备
超高真空钎焊炉
高真空甩带机
真空中频感应炉 真空技术应用设备 金属纳米粉连续生产及加压固结设备
多源超高真空纳米材料制备装置
空间环境模拟设备
同步辐射光束线与前端区
脉冲激光靶室
多功能离子注入设备
地址：沈阳市浑南新区新源街1号
邮编 110168
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